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三氟化氮

NF3 是半导体与平板显示行业常用的干法清洗气体,对纯度与杂质控制要求极高。

三氟化氮

三氟化氮

NF3 是半导体与平板显示行业常用的干法清洗气体,对纯度与杂质控制要求极高。

CAS NF3 纯度 99.99% / 99.999% 10L / 47L 钢瓶
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产品参数

CAS 号NF3
纯度等级99.99% / 99.999%
包装规格10L / 47L 钢瓶
钢瓶处理特种合金瓶,防腐蚀处理
应用领域半导体与面板制程的清洗刻蚀

三氟化氮产品说明

NF3 是半导体与平板显示行业常用的干法清洗气体,对纯度与杂质控制要求极高。

技术参数

CAS 号:NF3;纯度:99.99% / 99.999%

包装规格:10L / 47L 钢瓶;钢瓶处理:特种合金瓶,防腐蚀处理

应用场景

半导体与面板制程的清洗刻蚀

供应与服务

支持按客户工况定制纯度等级与包装规格,随货提供质量证明文件与安全数据表(SDS)。如需了解价格与交期,请联系销售热线。

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